หมวดหมู่อุปกรณ์ทำความสะอาดเวเฟอร์เฉพาะสำหรับกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ ประกอบด้วยอุปกรณ์ทำความสะอาดเฉพาะสำหรับการกำจัดสารปนเปื้อนบนผิวซิลิคอนเวเฟอร์, การกำจัดอนุภาค, การกำจัดสารอินทรีย์และสิ่งเจือปนโลหะ รวมถึงระบบทำความสะอาดทางเคมี เช่น อุปกรณ์ทำความสะอาด RCA, อุปกรณ์ทำความสะอาดเมกาโซนิค, อุปกรณ์ทำความสะอาดแบบหมุน, อุปกรณ์ทำความสะอาดแบบใบเดียว, อุปกรณ์ทำความสะอาดแบบแบทช์, อุปกรณ์ทำความสะอาด SPM, อุปกรณ์ทำความสะอาด DHF ใช้งานในสภาพแวดล้อมห้องสะอาด เป็นอุปกรณ์ที่จำเป็นสำหรับการรับประกันคุณภาพในกระบวนการก่อนและหลังการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ แยกแยะอย่างชัดเจนจากอุปกรณ์เอทชิ่งและอุปกรณ์ CVD