イオンプレーティングは、物質にイオンを照射して表面に化学的・物理的な変化を起こす技術です。真空中でイオン源から出るイオンをターゲット部分に照射することで、ターゲット表面に物質を形成したり付着させたりすることができます。

イオンプレーティングの最も一般的な応用は、表面コーティングです。金属やセラミックスの表面に薄いコーティングを形成することで、耐摩耗性や耐熱性、耐腐食性などの特性を改善することができます。また、光学的にも応用され、薄膜の反射率や透過率を制御して、レーザー加工や光学装置に利用されています。

イオンプレーティングは、低温で行われるため、高温にすることで熱処理を必要とする方法に比べ、負荷が少なく、エネルギー効率の高い方法です。また、原理的には、各種物質に対して適用可能であり、非常に高い制御性があるため、多様な応用が期待されています。