อุปกรณ์เฉพาะสำหรับฉีดไอออนสิ่งเจือปนด้วยพลังงานสูงลงในเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์เพื่อควบคุมคุณสมบัติทางไฟฟ้า ใช้ในกระบวนการโดปปิ้งสำหรับการผลิต LSI, หน่วยความจำ, และเซมิคอนดักเตอร์กำลัง รวมถึงระบบฉีดไอออนความแม่นยำสูง, เครื่องฉีดไอออนกระแสกลางและกระแสสูง, รุ่นที่รองรับพลังงานต่ำและพลังงานสูง รองรับแหล่งไอออนต่างๆ เช่น โบรอน, ฟอสฟอรัส, อาร์เซนิก พร้อมกลไกจัดการเวเฟอร์, ห้องสุญญากาศ, ระบบควบคุมลำแสง เป็นอุปกรณ์อัตโนมัติสมบูรณ์ที่จำเป็นสำหรับการกำหนดคุณสมบัติทางไฟฟ้าของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์