STAR-ICS800R PVD Coating System / อุปกรณ์เคลือบ PVD - การเคลือบแข็ง
ระบบเคลือบ PVD ความจุสูงสำหรับแม่พิมพ์ขนาดใหญ่- เส้นผ่านศูนย์กลางการเคลือบ: 500 มม. / 19.7”
-ความสูงเคลือบ: 600 มม./23.6
- แหล่งกำเนิดอาร์ค: 4 ชุด (สี่เหลี่ยม)
- รอบเวลา: 5 ชั่วโมง
- ขนาดตัวเครื่อง: L3226 x W2502 x H2113 มม
カテゴリ